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工艺设备现场

离子源系统

离子源系统是HIAF大科学装置的源头,提供强流离子束,所提供的离子种类从H到U,束流强度从微安到毫安不等。2024年01月前端装置首批设备入场。

高频系统

高梯度、宽频带磁合金高频系统实现了0.29~2.1MHz加速电压梯度>40kV/m、响应时间≤10μs的设计目标。2024年01月首批高频系统进驻装置现场。

真空系统

真空系统为HIAF提供超高/极高真空环境,是加速器运行的关键系统之一。2024年01月首批BRing真空设备进驻装置现场。

束诊系统

束诊系统通过对束流各类参数进行实时在线监测,提供加速器运行束流状态,是保障加速器稳定运行的必要系统。2023年12月束诊系统BRing设备批量进场。

控制系统

控制系统以设备的远程操控为核心,实现设备的监测与控制,数据的存储与分析等,保障加速器的高效、稳定运行。

电子冷却系统

电子冷却系统将显著降低SRing中储存离子束流的发射度和动量分散,补偿能量损失,助力SRing内靶实验亮度和分辨率提升。

探测器系统

基于HFRS束流功率高、感生放射性强的特点,采用真空自重密封、靶件导向定位、抗辐射传动、充气膨胀法兰等特殊设计方案。